tehno24.ru
← Наука
Наука26 сентября 2026, 07:06

Оксид гафния оказался истинным антиферроэлектриком: стабилен при 850 °C

Учёные Университета Небраски—Линкольна подтвердили, что оксид гафния (гафния) обладает собственной антиферроэлектрической структурой. Плёнки сохраняли свойство при толщине до 0,6 нм и температуре 850 °C, что открывает путь к компактным конденсаторам, памяти и твердотельному охлаждению.

Оксид гафния оказался истинным антиферроэлектриком: стабилен при 850 °C
#Hafnia
Читать дальше
Наука

Сегнетоэлектрик стабилен при почти атомарной толщине

Наука

В Европе 29% новых машин в августе оказались электромобилями

Наука

Известкование почв в бассейне Миссисипи оказалось крупным поглотителем CO2

Наука

3I/ATLAS оказался аномально богат тяжёлой водой