Хуанг: Китай создаст свои передовые литографы к 2030 году

Глава Nvidia Дженсен Хуанг заявил в подкасте All-In, что Китай разработает собственные передовые литографические системы к 2030 году, назвав это «вопросом времени». Сейчас китайская SMEE серийно выпускает только 193-нм ArF dry-сканеры для 90-нм техпроцесса, а иммерсионные сканеры для 28 нм ещё не вышли в массовое производство.

• Хуанг: Китай получит передовую литографию «к 2030 году, это просто вопрос времени»
• SMEE серийно делает лишь 193-нм ArF dry-сканеры для 90-нм чипов
• Иммерсионный сканер для 28 нм не подтверждён в массовом производстве
• По EUV у Китая нет даже прототипа сканера, только лабораторный источник света