США разрабатывают новые материалы для EUV-литографии под чипы атомного масштаба

Исследователи в США вместе с индустриальными партнёрами работают над новыми материалами для EUV-литографии, чтобы печатать схемы в десятки тысяч раз тоньше человеческого волоса и выпускать более плотные чипы. Ключевую роль играет Center for X-Ray Optics (CXRO) в Berkeley Lab, пионер EUV с конца 1990-х.

• EUV-литография печатает схемы в 50 000 раз тоньше человеческого волоса
• CXRO в Berkeley Lab развивает EUV с конца 1990-х совместно с SEMATECH
• Лучшие современные чипы содержат более 100 млрд транзисторов
• Цель — чипы меньшего размера с ещё большим числом транзисторов