Китайский институт CAS заявил о пути к 3-нм GAA без EUV через DUV

Институт Китайской академии наук (CAS) сообщил о прогрессе в разработке 3-нм техпроцесса GAA на оборудовании DUV без использования EUV. Технический руководитель нацпроекта 02 Special Тяньчунь Е представил маршрут на конференции IC WORLD.

• CAS разрабатывает 3-нм GAA-техпроцесс без EUV-литографии
• Маршрут основан на DUV-оборудовании вместо литографии EUV
• Технический руководитель проекта — Тяньчунь Е
• Представлено на конференции IC WORLD в Китае