Terafab Маска получит первый EUV-сканер ASML в середине 2027 года

Terafab, полупроводниковое подразделение SpaceX/Маска, получит первый литографический EUV-сканер ASML в середине 2027 года, сообщает Tim Culpan. По данным SemiAnalysis, оболочка фабрики в округе Граймс будет готова лишь к концу 2027 года, поэтому оборудование какое-то время будет простаивать; запуск ожидается в конце 2029 года.

• Первый EUV-сканер ASML прибудет в Terafab в середине 2027 года
• Корпус фабрики в Граймсе завершат только к концу 2027 года
• Запуск производства запланирован на конец 2029 года, выход на объём — к середине 2030
• Terafab будет использовать техпроцесс Intel 14A