Siemens и Nvidia ускорили литографию для ИИ-чипов в 12 раз

Siemens расширила партнёрство с Nvidia: библиотека cuLitho интегрирована с ПО Calibre для оптической коррекции (OPC). Полночиповый OPC ускоряется до 12 раз, симуляции литографии — от 10 до 17 раз, что важно для High-NA EUV и производства ИИ-ускорителей.

• Полночиповый OPC ускоряется до 12 раз за счёт GPU-библиотеки Nvidia cuLitho
• Симуляции литографии ускоряются от 10 до 17 раз по проверенным данным Siemens
• Ускорение делает практичной curvilinear ILT для High-NA EUV
• Решение ориентировано на производителей чипов и поставщиков фотомасок