ASML отказалась от ускорительного литографа в пользу лазерной плазмы

ASML не планирует переходить на технологию free-electron laser (FEL) с ускорителем частиц для генерации EUV-излучения, которую поддерживает Илон Маск. Компания продолжит развивать лазерно-плазменные источники (LPP), наращивая мощность с 500 до 1000 Вт и увеличивая число оловянных капель до 100 000 в секунду.

• ASML развивает LPP-источники EUV мощностью от 250 Вт до 500 Вт с целью достичь 1000 Вт
• Число оловянных капель в LPP-системе планируется увеличить до 100 000 в секунду
• FEL требует ускорителя частиц, ондулятора и сложной системы распределения луча
• По оценке JPMorgan, ASML не видит причин менять LPP на FEL, несмотря на поддержку Маска