Отрасль готовит крупноформатные фотомаски 6×12 дюймов к 2031 году
Опрос eBeam Initiative среди 85 экспертов из более чем 45 компаний показал: 66% ждут перехода на крупноформатные маски ~6×12 дюймов в течение десяти лет. TSMC и ASML уже объявили инициативу по пилотной линии 12-дюймовых масок к 2031 году ради роста производительности High-NA EUV примерно на 40%.
- 66% из 85 экспертов ждут крупноформатные маски в ближайшее десятилетие
- Пилотная линия 12-дюймовых масок намечена на 2031 год
- Крупный формат даёт до 40% прироста производительности без A/B-сшивки
- 68% ожидают роста закупок систем травления масок за три года
Читать дальше
Компании