Intel запустила High-NA EUV в производство, но сшивка чипов не доказана

Intel Foundry перевела литографию ASML с высокой числовой апертурой (High-NA) EUV в серийное производство. Однако задача сшивки (stitching) крупных чипов из нескольких экспозиций пока не решена окончательно.

• Intel Foundry ввела High-NA EUV от ASML в производственный процесс
• Проблема сшивки крупных чипов из нескольких экспозиций остаётся нерешённой
• Технология позволяет печатать более мелкие элементы, чем обычная EUV