Маск и Хуанг: Китай закроет разрыв в литографии к 2030 году

Илон Маск и глава Nvidia Дженсен Хуанг считают, что Китай закроет отставание в литографии к 2030 году. На фоне планов ASML нарастить выпуск EUV-систем до более 110 штук к 2028 году КНР развивает собственные системы передовой литографии.

• Маск и Хуанг прогнозируют закрытие разрыва Китая в литографии к 2030 году
• ASML планирует выпускать более 110 EUV-систем в год к 2028 году
• Китай разрабатывает собственные системы передовой литографии
• TSMC зафиксировала рост цен на пластины на 3–6% на 2027 год