Безмасочная EUV-литография как альтернатива электронно-лучевой

SemiWiki разбирает безмасочную EUV-литографию — подход, при котором рисунок схемы задаётся без индивидуальной фотомаски, в отличие от классической EUV с длиной волны 13,5 нм и отражательной оптикой. Метод рассматривают как альтернативу электронно-лучевой литографии.

• Классическая EUV использует свет 13,5 нм и отражательную оптику с фотомаской
• Безмасочный подход исключает изготовление отдельной маски для каждого слоя
• Метод позиционируют как альтернативу электронно-лучевой литографии