ASML: эффект ИИ на производство чипов растянется на 10–15 лет

Глава ASML Кристоф Фуке заявил, что влияние ИИ на полупроводниковую отрасль будет разворачиваться 10–15 лет, а не мгновенно. Компания планирует увеличить апертуру зеркал в EUV-системах и перейти к вертикальной компоновке чипов; High-NA EUV с большими масками намечен на 2033 год с ростом производительности на 40%.

• Фуке: эффект ИИ на общество и индустрию займёт 10–15 лет
• ASML планирует High-NA EUV с большими масками к 2033 году
• Обещан рост производительности на 40%
• Одна EUV-система стоит до $400 млн и содержит 100 000+ деталей