Carl Zeiss и ASML предложили Hyper-NA EUV с апертурой от 0,75

Исследователи Carl Zeiss SMT и ASML опубликовали техническую статью о Hyper-NA EUV — литографии с числовой апертурой не менее 0,75 как следующем шаге после систем High-NA с 0,55. В работе разобраны оптическая архитектура, потенциал разрешения, 3D-эффекты фотошаблона, поляризация и требования к расширению существующей экосистемы EUV.

• Hyper-NA EUV: числовая апертура не менее 0,75 против 0,55 у High-NA
• Статья вышла в Journal of Micro/Nanopatterning, Materials, and Metrology
• Разобраны оптика, разрешение, 3D-эффекты шаблона и поляризация
• Оценены требования к расширению экосистемы EUV