AlixLabs тестирует APS-удвоение плотности структур на линии imec NanoIC

Шведская AlixLabs начала шестимесячную оценку технологии Atomic Layer Etch Pitch Splitting (APS) на пилотной линии NanoIC под управлением imec. APS расщепляет одну структуру на две линии, удваивая плотность рисунка и сокращая число техпроцессов по сравнению с SADP и SAQP.

• Оценка APS продлится шесть месяцев на пилотной линии imec NanoIC
• APS удваивает плотность рисунка, расщепляя одну структуру на две линии
• Метрики: критический размер, LER/LWR, pitch walking и дефектность
• AlixLabs планирует вывести платформу Sax Forma APS в массовое производство