ASML раскрыла Hyper NA EUV — преемника EUV для 5 нм за одну экспозицию

Инженеры ASML и Zeiss опубликовали научную статью в Journal of Micro/Nanopatterning, Materials and Metrology, в которой впервые официально раскрыли технологию Hyper NA EUV. Новое поколение литографии нацелено на выпуск чипов по 5-нм нормам за одну экспозицию.

• ASML и Zeiss раскрыли Hyper NA EUV в научной статье
• Технология нацелена на 5 нм за одну экспозицию
• Публикация вышла в октябрьском выпуске Journal of Micro/Nanopatterning